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当原水硅酸盐含量较高时，可投加石灰、氧化镁(或白云粉)进行处理。硅的溶解度与水的温度和pH值有关。当硅存在于RO给水中的浓度大于20mg/L时，必须作结垢倾向的评估pH< 9时，大多数硅以硅酸形式存在，即为氏Si04或写作si (oH)4;在更低pH值条件下，硅酸会聚集形成胶体，称硅胶;在州>9时，一定数量的硅以硅酸根Si诱一存在;在更高pH值条件下，Si咪一能与钙、镁、铝形成盐沉淀下来。由于硅垢的清洗比较困难，故防止其在膜上结垢是十分必要的。当反渗透系统与存在于原水中的悬浮物、胶体等杂质接触时，它就有可能被污染。这些杂质在反渗透系统内浓缩时，就有可能聚集成大颗粒沉积在膜表面上。一旦发生此类污染，将影响膜的性能。如果及时采取措施，大多数的污染物可通过清洗除去。但是，清洗毕竟耗费人力物力，通过适当预处理，把反渗透污染降至低的程度，减少清洗频率是十分必要的。常用方法有:混凝与沉淀处理、过滤、水的氯化处理等

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混凝处理的目的，水中的悬浮物和胶体物质的粒径不同，它们的沉降速度相差很大。大颗粒悬浮物在重力作用下容易沉降，而微小粒径的悬浮物以及胶体杂质能在水中长期保持分散悬浮状态(称胶体的稳定性)，为了除去水中这些微小粒径的悬浮物以及胶体杂质，需要进行混凝处理，使这些微小杂质聚结成较大的颗粒，迅速沉降下来，从而使水得到澄清。天然水中胶体和悬浮物是按杂质颗粒大小进行大致分类的，而实际上胶体和悬浮物之间没有一个明显的界限。悬浮物颗粒愈小，胶体性质就愈明显，因此，讨论胶体物质时，也包含了微小的悬浮物。水中胶体颗拉带电的原因天然水中的胶体是某些低分子物质的聚合体，它具有较小的粒径和较大的比表面积。胶体颗粒的表面通常带有负电荷。现将胶体带电的几种情况讨论如下:(1)固体的表面基团可以与水反应，接受或献出氢离子，例如，硅的氧化物含有硅醇基团(三SiOH)。

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胶体颗拉具有稳定性的原因。主要原因有以下几点:胶体微粒的布朗运动胶体微粒在水中做无规则的高速运动，并趋于均匀分散状态，即布朗运动。分散度越大，胶粒越小，布朗运动越剧烈，扩散能力越强，胶粒越不易下沉。胶体颗粒不因重力作用而下沉现象，称为胶粒的动力稳定性。胶粒带电的稳定作用由于胶体颗粒带有同性电荷(大多带负电荷)，因此胶体颗粒间具有静电斥力，即胶粒间静电斥力大于两胶粒之间的吸引力时，不利于颗粒的聚集。胶粒具有一定g电位值，是胶粒稳定的主要原因。电位愈大，胶体愈稳定，当夸电位为零时，胶粒就不带电，此时称为等电点。实验表明，加人电解质时，尚未达到等电点之前就能发生明显的聚沉，到等电点时聚结的速度大。

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反渗透、纳滤、微滤和超滤属于交叉式过滤，即给水流在水处理过程中分成淡水流(产品水流)和含浓缩溶质或颗粒杂质的浓水流，大量的溶质和杂质随浓水带走，见图5-2 ;而常规过滤是水流直接流过过滤介质(滤料或膜等)，而杂质截留在介质上或介质之间，见图5-3。现分别简述如下:可除去约大小0 .1-} 1 arm的颗粒杂质。主要用于去除细菌、悬浮固体、胶体物质等。可透过溶解固体和大分子，运行压力可为0 .07MPa超滤(UF)可去除约大于0 . 002 --- 0 .1 }m大小的颗粒杂质。主要用于去除胶体、蛋白质、悬浮固体、微生物等，可除去分子量(ND刀-CO)大于1000 } x.00000的物质，能透过溶解固体和小分子。可除去大小0.0001}rn的颗粒杂质，一般可除去分子量大于50 }- 200的有机物，除盐率可高达95%以上，是高含盐水采用的主要预脱盐手段之一，也是当代公认的先进的水处理技术，

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预处理的一般原则，预处理方案反渗透系统由预处理、反渗透装置处理和后处理三部分组成。反渗透预处理方案的确定要考虑如下因素:，原水水源类型及水质情况;要求的预处理出水的水质;澄清器、粒状过滤器、微米保安过滤器类型的选择;混凝剂、助凝剂(絮凝剂)的种类选择与剂量的确定;考虑有无需要附加工艺，如原水加碱、石灰处理、加氯杀菌、除铁、除硅等;在北方寒冷地区，确定原水加热方案;根据RO装置具体情况，确定是否调节给水pH值，加氯处理和加阻垢剂等;设备的控制水平等;膜的种类:CA膜、中空PA膜、复合膜等。化学预处理，要考虑膜的兼容性;膜元件(组件)类型:板框式、卷式、中空纤维式等。类型不同，其进水水质的要求有所不同