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水头损失增长速度减小，运行周期延长等明显的优点。3.滤料的特性(})常用的滤料在粒状滤料过滤中，常用的滤料有石英砂(密度约为2.65g/cm}).磺化煤(密度在1.4---1.7g/cm}之间)和拓榴石(密度为3.6}4.2g/cm3)或钦铁矿(密度为4.2}-4.6g/cm3之间)，并常以磺化煤和石英砂作为双层滤料，石英砂、磺化煤和拓榴石或钦铁矿作为三层滤料。还有特殊用途的滤料如活性炭(GAC)，可以起着过滤和吸附作用。拓榴石是指几种不同矿物质的通称，主要是铁铝榴石、钙铁榴石和钙铝榴石，它是铁、铝、钙的硅酸盐的混合物。钦铁矿是一种铁钦矿石，它与赤铁矿和磁铁矿有关，都是铁的氧化物。某厂生产的石英砂滤料粒径规格及其质量分别见表3-7和

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当反洗流速增大和滤层膨胀时，滤料逐渐呈浮动状态。典型反洗流量是12一16L/(储"s)或流速37——49m/h，导致滤层膨胀率为15 0rb -L45 0.6。当反洗排水浊度等于反洗进水浊度时，可以慢慢关闭进水阀门，结束滤料浮动状态，并让滤料很好地分层。表面清洗加全浮动状态的逆流反洗:该方法可用于改进反洗的效果。表面清洗系统从安装在固定滤层表面2.5——5cm之上的小孔注人水流。表面清洗在逆流反洗前运行1一2min，通常在反洗期间连续进行，在此期间，表面清洗系统浸泡在浮动起来的滤料之中。表面清洗在反洗结束前2——3min结束。表面清洗依靠安装在滤料上面的管簇或旋转的水分配臂来完成(即固定式或旋转式两种)，且均含有用于喷出压力水流的管孔或喷嘴。运行压力一般为350——520kPa，固定式管孔孔径一般为2---3rnm，喷出压力水流量为1.6---3.3L/(m2-s)或流速5一10 m/h;旋转式喷嘴间距离为10 --- 20cm，喷出压力水流量为.4-}0.8L/(衬r})或流速1.2一2. 4m/h。

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反渗透ro膜化学清洗常运行条件下，反渗透膜也可能被无机物垢、胶体、微生物、金属氧化物等污染，这些物质沉积在膜表面上会引起净水设备反渗透装置出力下降或脱盐率下降、压差升高，甚至对膜造成不可恢复的损伤，因此，为了恢复良好的透水和除盐性能，需要对膜进行化学清洗。一般3～12个月清洗一次，如果每个月不得不清洗一次，这说明应该改善的预处理系统，调整的运行参数。如果1～3个月需要清洗一次，则需要提高设备的运行水平，是否需要改进预处理系统较难判断。新膜元件(1) 膜元件在出厂前都经过了通水测试，并使用1%的亚硫酸钠溶液进行储藏处理，再用氧气隔绝袋真空包装;(2) 膜元件必须一直保持在湿润状态。即使是在为了确认同一包装的数量而需暂时打开时，也必须是在不损坏塑料袋的状态下进行，此状态应保存到使用时为止;(3) 膜元件应该保存在5——10℃的低温下。在温度超过10℃的环境中保存时要选择通风良好的场所，并且避免阳光直射，保存温度不要超过35℃;(4) 膜元件如果发生冻结就会发生物理破损，所以要采取保温措施，不要使之冻结;(5) 堆放膜元件时，包装箱不要超过5层，并要确保纸箱保持干燥。

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而吸附机理为把杂质截留在滤料的表面。化学预处理对深层过滤是必不可少的，因为它可把胶体颗粒杂质凝聚(或絮凝)成较大的颗粒，有利于把杂质颗粒传送至滤料内，同时增加过滤过程中截留颗粒杂质的吸附力。对于顺流过滤，滤料较理想的排列应是大颗粒滤料在上，而较小颗粒滤料在下，即沿着水流方向，滤料由大至小。但对单层滤料如石英砂，在反洗之后，石英砂颗粒的排列总是根据其重量大小，沿着水流方向由小至大，这样，由于上部砂层细，下部砂层截污能力难以充分发挥出来，且水流阻力增大较快。而双层或多层滤料过滤则能较好地克服这一缺点。因为对于石英砂一磺化煤为滤料的双层床过滤器，尽管同一种滤料的排列仍是按水流方向由小至大，但利用不同滤料的密度差(石英砂的大于磺化煤的)，使粒径较大的磺化煤层在上部，而较细的石英砂层在下部，固体杂质可以渗透到床层深度，而床层也就更好地被利用了。实践证明，双层床比单层床具有滤速增大，截污能力提高，

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一般发生下列情况之一时，需要进行反洗:过滤器水头损失达到规定值(或建议值);2)过滤器出水水质变坏或达到设定的水质上限时;过滤器运行达到规定(或建议)的运行时间。其次是反洗参数的确定，在确定反洗参数时，应考虑如下因素:滤料的大小与分布、滤层高和滤料的密度;除去的固体杂质的性质，主要是它们对滤料的吸附力和它们在滤料表面上压实的趋势;提供的辅助清洗设施的类型。一般情况下，反洗强度采用经验数值或小型试验来确定。电系统采用的反洗强度。后介绍反洗方法，反洗系统的选择、合理的设计和运行是保证过滤成功的关键。下面介绍几种常见的方法:全浮动状态下的逆流反洗:反洗水通过滤层底部排水系统引人。

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当原水硅酸盐含量较高时，可投加石灰、氧化镁(或白云粉)进行处理。硅的溶解度与水的温度和pH值有关。当硅存在于RO给水中的浓度大于20mg/L时，必须作结垢倾向的评估pH< 9时，大多数硅以硅酸形式存在，即为氏Si04或写作si (oH)4;在更低pH值条件下，硅酸会聚集形成胶体，称硅胶;在州>9时，一定数量的硅以硅酸根Si诱一存在;在更高pH值条件下，Si咪一能与钙、镁、铝形成盐沉淀下来。由于硅垢的清洗比较困难，故防止其在膜上结垢是十分必要的。当反渗透系统与存在于原水中的悬浮物、胶体等杂质接触时，它就有可能被污染。这些杂质在反渗透系统内浓缩时，就有可能聚集成大颗粒沉积在膜表面上。一旦发生此类污染，将影响膜的性能。如果及时采取措施，大多数的污染物可通过清洗除去。但是，清洗毕竟耗费人力物力，通过适当预处理，把反渗透污染降至低的程度，减少清洗频率是十分必要的。常用方法有:混凝与沉淀处理、过滤、水的氯化处理等