东胜纯水设备生产厂家

在日常生活中，我们经常见到水壶用久后内壁会有水垢生成。这是什么原因呢？原来在我们取用的水中含有不少无机盐类物质，如钙、镁盐等。 这些盐在常温下的水中肉眼无法发现，一旦它们加温煮沸，便有不少钙、镁盐以碳酸盐形成沉淀出来，它们紧贴壶壁就形成水垢。我们通常把水中钙、镁离子的含量用“硬度”这个指标来表示。硬度1度相当于每升水中含有10毫克氧化钙。低于8度的水称为软水，高于17度的称为硬水，介于8～17度之间的称为中度硬水。雨、雪水、江、河、湖水都是软水，泉水、深井水、海水都是硬水。 软化水设备工作流程: 工作(有时叫做产水，下同)、反洗、吸盐(再生)、慢冲洗(置换)、快冲洗五个过程。不同软化水设备的所有工序非常接近，只是由于实际工艺的不同或控制的需要，可能会有一些附加的流程。任何以钠离子交换为基础的软化水设备都是在这五个流程的基础上发展来的(其中，全自动软化水设备会增加盐水重注过程)。 反洗：工作一段时间后的设备，会在树脂上部拦截很多由原水带来的污物，把这些污物除去后，离子交换树脂才能完全曝露出来，再生的效果才能得到保证。 反洗过程就是水从树脂的底部洗入，从顶部流出，这样可以把顶部拦截下来的污物冲走。这个过程一般需要5-15分钟左右。

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一般情况下，对不同粒径的滤料，水和空气流量(速)应有所不同，以防止滤料排出体外。从石英砂表面至反洗水溢流口之间垂直距离一般不少于0 . smo对于先进行空气擦洗，后进行水反洗的情况，在美国，对双滤料过滤器(d。为1. Omm磺化煤+d。为o.s~石英砂)，空气流速ss---91m/h，根据水温，选用全浮动状态下水流量为12一16L}(时·S)或流速37 --- 49m/h o对于空气擦洗与水反洗同时进行的情况，在美国，对于d}为1.0~石英砂，空气流速为37 --- 73m/h，水流速为lsm/h;对d。为2.0~石英砂，空气流速为110 }--1sOrn/h，水流速为1s一20m/h(3)直流过滤又称直流混凝过滤，是指对原水(地表水)悬浮物较低的水，不加设沉淀设备把混凝剂(与助凝剂)直接加到过滤器的进水管道中，让水中杂质形成可过滤的细小矾花，以便在过滤器中除去杂质的过程，见图3-170由于直流过滤没有另设沉淀设备，因此投资成本低。

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常用的预处理方法对于反渗透预处理，一方面要防止悬浮杂质、胶体、微生物污染膜，另一方面要防止难溶盐在膜上析出，在采用化学方法处理原水时，还应注意膜与药品兼容性的问题。对于小型RO系统，以较低回收率运行，把浓水中离子浓度降至较低，尽可能防止碳酸钙的析出;对于大型RO系统，从经济上考虑，要求水的回收率较高，防止碳酸钙结垢可采用给水加酸处理。碳酸钙的溶解度很大程度上取决于碳酸氢盐的浓度和水的pH值。加人足量的酸进人给水，可降低碳酸氢盐浓度(转化为二氧化碳)和降低水的pH值，从而增加CaC03溶解度，防止碳酸钙的形成。如果加酸系统失灵，导致CaC03析出，则一旦又有合适的酸量加人系统，则该垢又会溶解。对CA膜RO系统，加酸调节合适的pH值，既可降低膜水解速度，也是防止CaC03析出的主要手段。

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而吸附机理为把杂质截留在滤料的表面。化学预处理对深层过滤是必不可少的，因为它可把胶体颗粒杂质凝聚(或絮凝)成较大的颗粒，有利于把杂质颗粒传送至滤料内，同时增加过滤过程中截留颗粒杂质的吸附力。对于顺流过滤，滤料较理想的排列应是大颗粒滤料在上，而较小颗粒滤料在下，即沿着水流方向，滤料由大至小。但对单层滤料如石英砂，在反洗之后，石英砂颗粒的排列总是根据其重量大小，沿着水流方向由小至大，这样，由于上部砂层细，下部砂层截污能力难以充分发挥出来，且水流阻力增大较快。而双层或多层滤料过滤则能较好地克服这一缺点。因为对于石英砂一磺化煤为滤料的双层床过滤器，尽管同一种滤料的排列仍是按水流方向由小至大，但利用不同滤料的密度差(石英砂的大于磺化煤的)，使粒径较大的磺化煤层在上部，而较细的石英砂层在下部，固体杂质可以渗透到床层深度，而床层也就更好地被利用了。实践证明，双层床比单层床具有滤速增大，截污能力提高，

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混凝处理的目的，水中的悬浮物和胶体物质的粒径不同，它们的沉降速度相差很大。大颗粒悬浮物在重力作用下容易沉降，而微小粒径的悬浮物以及胶体杂质能在水中长期保持分散悬浮状态(称胶体的稳定性)，为了除去水中这些微小粒径的悬浮物以及胶体杂质，需要进行混凝处理，使这些微小杂质聚结成较大的颗粒，迅速沉降下来，从而使水得到澄清。天然水中胶体和悬浮物是按杂质颗粒大小进行大致分类的，而实际上胶体和悬浮物之间没有一个明显的界限。悬浮物颗粒愈小，胶体性质就愈明显，因此，讨论胶体物质时，也包含了微小的悬浮物。水中胶体颗拉带电的原因天然水中的胶体是某些低分子物质的聚合体，它具有较小的粒径和较大的比表面积。胶体颗粒的表面通常带有负电荷。现将胶体带电的几种情况讨论如下:(1)固体的表面基团可以与水反应，接受或献出氢离子，例如，硅的氧化物含有硅醇基团(三SiOH)。